マイクロン、EUV（極端紫外線）技術を日本に導入し次世代DRAMの製造を行なうと発表TwitterFacebookはてブPocketLINEコピー2023.05.18自己紹介 yu-ta(ゆーた)26歳、会社員 PC.スマホ周辺機器やスマート家電など ガジェットを使って スマートな生活を送っています。 このサイトでは管理人おすすめの 最新の便利ガジェット情報や お得に買えるセール情報を中心に 発信しております。自己紹介 yu-ta(ゆーた)26歳、会社員 PC.スマホ周辺機器やスマート家電など ガジェットを使って スマートな生活を送っています。 このサイトでは管理人おすすめの 最新の便利ガジェット情報や お得に買えるセール情報を中心に 発信しております。Micron Technology, Inc.はEUV（極端紫外線）技術を日本に導入し、1γ（1ガンマ）ノードによる次世代DRAMの製造を行なうと5月18日に発表した。
Micron Technology, Inc.はEUV（極端紫外線）技術を日本に導入し、1γ（1ガンマ）ノードによる次世代DRAMの製造を行なうと5月18日に発表した。
Micron Technology, Inc.はEUV（極端紫外線）技術を日本に導入し、1γ（1ガンマ）ノードによる次世代DRAMの製造を行なうと5月18日に発表した。